光刻机 光刻機是怎麼工作的原理分析 光刻機是一種以極高精度將電路圖案轉移到晶圓上的設備，其運作原理如下：準備光掩模（刻有電路圖案的玻璃板）；生成紫外光源（波長極短）；投射光束（通過透鏡系統）；照射晶圓（光束穿透光掩模，曝光未被遮擋區域）；顯影光刻膠（曝光區域溶解，保留圖... David 更新時間 2025年1月6日
光刻机 光刻機的分類和參數表 光刻機分爲兩類：接觸式（直接接觸掩模和晶圓）和投影式（將掩模圖案投影到晶圓）。光刻機參數包括分辨率、深度聚焦、對準精度、重複精度、曝光場大小、光源波長、模板類型、通量、引線時間和造價。光刻機的分類光刻機根據其曝光方式可分爲接觸式和投影... Michael 更新時間 2025年1月6日
光刻机 光刻機分類有哪些類型的 光刻機分類主要根據光源類型和光刻方式：一、光源類型紫外（uv）光刻機極紫外（euv）光刻機二、光刻方式接觸式光刻（已淘汰）近距離曝光（proximity）光刻投影式光刻（主流方式）浸沒式光刻 a) 水浸沒式光刻 b) 油浸沒式光刻光刻... Laura 更新時間 2025年1月6日
