光刻機的分類和參數表

光刻機分爲兩類：接觸式（直接接觸掩模和晶圓）和投影式（將掩模圖案投影到晶圓）。光刻機參數包括分辨率、深度聚焦、對準精度、重複精度、曝光場大小、光源波長、模板類型、通量、引線時間和造價。

光刻機的分類

光刻機根據其曝光方式可分爲接觸式和投影式兩類。

• 接觸式光刻機：透鏡直接接觸掩模和晶圓，將掩模上的圖案轉移到晶圓上。精度較高，但只適用於掩模和晶圓尺寸較小的場合。
• 投影式光刻機：透鏡將掩模上的圖案縮小投影到晶圓上，精度較低，但適用於掩模和晶圓尺寸較大的場合。

光刻機的參數表

參數	含義	單位
分辨率	能夠分辨的最小特徵尺寸	納米 (nm)
深度聚焦	允許的晶圓厚度偏差	微米 (µm)
對準精度	掩模與晶圓對準的精度	納米 (nm)
重複精度	多次曝光時圖案重複對齊的精度	納米 (nm)
曝光場大小	每次曝光可以覆蓋的晶圓面積	毫米 (mm)
光源波長	用於曝光的光源波長	納米 (nm)
模板類型	使用的掩模類型	二進制、相移等
通量	每秒曝光的像素數量	個 / 秒
引線時間	訂購到交付所需的時間	月
造價	光刻機購買成本	美元

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