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光刻機是微電子製造中的關鍵設備，用於在晶片上創建微小電路和結構。其基本原理包括：（1）圖案設計；（2）光掩模製作；（3）曝光；（4）顯影；（5）刻蝕。光刻機使微型化、精度和批量生產成爲可能，在半導體制造中不可或缺。
光刻機：微電子製造的基石
光刻機是一種精密設備，用於在半導體晶片上製造微小的電路和結構。它利用光的曝光和顯影過程，在晶片上創建複雜的圖案。
光刻機的原理
光刻機使用以下步驟將圖案刻蝕到晶片上：
- 圖案設計：首先，工程師使用計算機輔助設計 (CAD) 軟件創建電路或結構的圖案。
- 光掩模製作：將圖案傳輸到透明光掩模上，光掩模上透明的部分對應於電路或結構的所需位置。
- 曝光：光掩模放置在晶片上方，並用紫外線 (UV) 光照射。透明區域允許紫外線通過，將晶片下方對應的部分曝光。
- 顯影：暴露的晶片區域與光刻膠反應，形成可溶解的圖案。
- 刻蝕：晶片被蝕刻劑處理，以去除光刻膠暴露的區域，形成電路或結構的物理形狀。
光刻機在微電子製造中的作用
光刻機是半導體制造中不可或缺的一部分，因爲它允許：
- 微型化：光刻機可以製造出非常小的特徵，這對於現代電子設備的尺寸和複雜性至關重要。
- 精度：光刻機提供極高的精度和分辨率，確保圖案准確地轉移到晶片上。
- 大規模生產：光刻機能夠快速批量製造晶片，滿足電子行業對大量半導體元件的需求。
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