光刻機分類有哪些類型的

光刻機分類主要根據光源類型和光刻方式：一、光源類型紫外（uv）光刻機極紫外（euv）光刻機二、光刻方式接觸式光刻（已淘汰）近距離曝光（proximity）光刻投影式光刻（主流方式）浸沒式光刻 a) 水浸沒式光刻 b) 油浸沒式光刻

光刻機類型

光刻機是一種用於製造集成電路的基礎設備，主要用於將掩模上的圖案轉移到晶圓基板之上，形成電路結構。市面上光刻機通常根據其光源類型和光刻方式進行分類。

分類方式

一、光源類型

• 紫外（UV）光刻機：使用紫外光作爲光源，主要應用於製造較大的半導體器件。
• 極紫外（EUV）光刻機：使用極紫外光作爲光源，具有更短的波長，能夠實現更高的精細度，主要應用於製造先進的半導體器件。

二、光刻方式

• 接觸式光刻：掩模直接接觸晶圓表面進行曝光，精度較低，已逐漸被淘汰。
• 近距離曝光（Proximity）光刻：掩模與晶圓之間保持一定的距離進行曝光，精度高於接觸式光刻。
• 投影式光刻：使用鏡頭組將掩模上的圖案投射到晶圓表面，精度更高，是主流的光刻方式。
• 浸沒式光刻：在掩模和晶圓之間灌入液體，提高分辨率和曝光均勻性。
• 水浸沒式光刻：使用水作爲浸沒液體，成本較低。
• 油浸沒式光刻：使用光學性能更好的油作爲浸沒液體，精度更高。

三、其他分類

除了上述分類外，光刻機還可以根據以下因素進行進一步分類：

• 分辨率：能夠實現的最小線寬或圖案尺寸。
• 通量：每小時生產晶圓的數量。
• 對準精度：將掩模圖案准確轉移到晶圓上的能力。

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