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光刻機品牌主要分爲三類：美國（asml、kla、應用材料）、荷蘭（asml）、日本（尼康、佳能、東京電子）。其中，asml在全球市場份額超過90%，佔據主導地位。
光刻機品牌分類
光刻機是製造半導體芯片的關鍵設備，負責將芯片的電路圖案轉移到硅片上。以下是光刻機品牌的分類：
1. 美國
- ASML
- KLA
- 應用材料（Applied Materials）
2. 荷蘭
- ASML
3. 日本
- 尼康（Nikon）
- 佳能（Canon）
- 東京電子（Tokyo Electron）
4. 中國
- 上海微電子裝備（SMEE）
- 北方華創
- 中微半導體設備（AMEC）
5. 其他
- 德國蔡司（Carl Zeiss）
- 瑞士西門子（Siemens）
- 韓國三星
需要注意的是，ASML在全球光刻機市場佔據主導地位，擁有超過90% 的市場份額。
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