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4月16日的消息，國外博主yeux1122的爆料指出，蘋果正在測試新的抗反射光學塗層技術，旨在減少鏡頭炫光和鬼影等僞影，以提升照片質量。
1. 根據供應鏈消息，蘋果正在考慮在iPhone相機鏡頭製造工藝中引入新的原子層沉積（ALD）設備。- 原子層沉積是一種基於連續使用氣相化學過程的薄膜沉積技術，通過將物質以單原子膜形式逐層鍍在襯底表面的方式實現。
- ALD是一種納米技術，可以以精確控制方式實現納米級超薄薄膜沉積。 相機鏡頭應用
ALD 工藝主要用於相機鏡頭，具體來說是噴塗抗反射塗層，以減少攝影僞影。
1. 減少圖像失真
當強光源（如太陽）直接照射鏡頭時，可能導致拍攝的圖像出現條紋和光暈。ALD 技術可以減少這些圖像失真現象。
2. 保護鏡頭系統
ALD 應用材料還可以防止環境對相機鏡頭系統造成損害，同時不會影響傳感器有效捕捉光線的能力。
1. 博文指出，蘋果計劃將該工藝應用於iPhone的Pro系列機型，可能會在iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上看到。- 編輯點評：iPhone用戶一直對光線反射所帶來的炫光和鬼影問題頭痛，蘋果研發這一新技術有望改善照片質量，減少炫光和僞影，爲用戶帶來更出色的拍攝體驗。如果成功應用於iPhone上，將進一步鞏固蘋果在智能手機攝影領域的領先地位。
以上就是蘋果正在研發抗反射技術：將減少拍攝炫光等問題的詳細內容，更多請關注本站其它相關文章！
