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感謝網友 華南吳彥祖 的線索投遞！ 4 月 16 日消息，消息源 yeux1122 近日在其 Naver 博客上曝料，表示從蘋果供應鏈處獲悉，蘋果正測試新的抗反射光學塗層技術，可以減少鏡頭炫光和鬼影等僞影，從而提高照片質量。
供應鏈消息稱蘋果正在考慮在 iPhone 相機鏡頭製造工藝中，引入新的原子層沉積（ALD）設備。原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種基於連續使用氣相化學過程的薄膜沉積技術，將物質以單原子膜形式逐層鍍在襯底表面的方法。ALD 是一種真正的納米技術，以精確控制方式實現納米級的超薄薄膜沉積。而具體到相機鏡頭方面，ALD 工藝主要用來噴塗抗反射塗層，這有助於減少攝影僞影。例如當太陽等強光源直接照射鏡頭時，最終拍攝的圖像中可能出現條紋和光暈，而 ALD 可以減少這些圖像失真現象。附上截圖如下：此外，ALD 應用材料可以防止環境對相機鏡頭系統造成損害，同時又不會影響傳感器有效捕捉光線的能力。博文表示蘋果計劃將該工藝部署到 iPhone 的 Pro 機型中，可能會應用到 iPhone 16Pro 系列或者明年的iPhone 17Pro系列上。以上就是消息稱蘋果正測試 ALD 工藝，爲下一代 iPhone Pro 鏡頭添加抗反射光學塗層的詳細內容，更多請關注本站其它相關文章！
