消滅藥丸屏！蘋果屏下Face ID專利曝光

1月16日消息，蘋果iphone全面屏設計的最大挑戰在於屏下face id技術。face id依賴於深感攝像頭投射並分析大量點來捕捉精準人臉數據。目前，紅外攝像頭和點陣投影器等核心組件難以完全隱藏於屏幕下方，導致蘋果不得不採用“藥丸屏”方案。

然而，最新報道顯示，蘋果已獲得一項屏下Face ID專利，攻克了這一技術難題。

屏下Face ID的核心在於提升紅外光的透光率。雖然紅外光能穿透屏幕，但透射率極低，直接放置於面板下方會顯著降低識別速度和可靠性。

蘋果的專利方案巧妙地解決了這個問題。通過移除部分子像素，讓紅外光順利穿過OLED面板。由於每個像素由紅、綠、藍三個子像素組成，蘋果移除的是相同顏色的相鄰子像素，而不會影響用戶視覺體驗，因爲系統會利用相鄰子像素的顏色混合來補償缺失部分，確保顯示效果的完整性。

該方案預計最早將於2026年應用於iPhone 18系列，屆時，iPhone將採用單挖孔屏設計，徹底告別“藥丸屏”。

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