光刻机 光刻机是怎么工作的原理分析 光刻机是一种以极高精度将电路图案转移到晶圆上的设备，其运作原理如下：准备光掩模（刻有电路图案的玻璃板）；生成紫外光源（波长极短）；投射光束（通过透镜系统）；照射晶圆（光束穿透光掩模，曝光未被遮挡区域）；显影光刻胶（曝光区域溶解，保留图... David 更新时间 2025年1月6日
光刻机 光刻机的分类和参数表 光刻机分为两类：接触式（直接接触掩模和晶圆）和投影式（将掩模图案投影到晶圆）。光刻机参数包括分辨率、深度聚焦、对准精度、重复精度、曝光场大小、光源波长、模板类型、通量、引线时间和造价。光刻机的分类光刻机根据其曝光方式可分为接触式和投影... Michael 更新时间 2025年1月6日
光刻机 光刻机分类有哪些类型的 光刻机分类主要根据光源类型和光刻方式：一、光源类型紫外（uv）光刻机极紫外（euv）光刻机二、光刻方式接触式光刻（已淘汰）近距离曝光（proximity）光刻投影式光刻（主流方式）浸没式光刻 a) 水浸没式光刻 b) 油浸没式光刻光刻... Laura 更新时间 2025年1月6日
